三氟化氮化學式NF3，是無色、無臭、性質穩定的液化氣體，三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，易司拓普可供應4N級三氟化氮氣體，有需求可咨詢客服。

三氟化氮產品介紹

產品名稱：三氟化氮

英文名：nitrogen trifluoride

CAS號：7783-54-2

分子量：71.00190

分子式：F3N

產品規格：4N

包裝規格：47L/瓶、Diss640、20kg

三氟化氮的用途與應用

三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。

NF3是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅的蝕刻，采用NF3和CF4＋O2的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染。氫與NF3反應，在瞬間伴隨放出大量的熱，這就是NF3在高能化學激光器方面大量應用的原理。在高溫下，NF3與有機化合物反應常伴有爆炸性，操作時應十分謹慎。

用作高能燃料。

三氟化氮的生產

目前三氟化氮工業化生產主要有兩條路線,一是合成法:將氟化氫銨在鎳制反應器中加熱,氟氣、氮氣和氨通過分布器進入反應器直接氟化反應。二是電解法:在一定溫度下,電解熔融的氟化氫銨,電解過程中陽極產生三氟化氮,陰極產生氫氣。我國三氟化氮生產廠家的生產方法為上述兩種方法。